RFIS-100离子源 Beam Imaging Solutions(BIS)RF离子源 RF电源

Beam Imaging SolutionsBIS展示了新型RFIS-100离子源组件。RFIS-100设计为可改装为标准型号G-1和G-2离子枪加速器系统。离子源使用13.56 MHz的RF电源供电,并带有手动调整匹配网络,以产生电感耦合等离子体(ICP)。与标准Colutron热阴极DC放电源相比,RF离子源具有许多优势,包括维护之间的工作时间更长,尤其是使用氧气和反应性气体时,而且维护电流更高。除了能够从气体中产生离子之外,新的离子源还具有通过在放电室中用金属靶溅射源气体来产生金属离子的附加功能。尚未拥有Colutron离子枪的客户可以购买新的离子源,以适合他们自己的离子加速器系统。拥有Colutron离子枪的客户将从离子枪上卸下标准的Colutron DC离子源和散热器组件,然后将RF离子源直接连接到Colutron 500型绝缘子法兰上。射频源不需要Colutron散热器运行。


离子源成分

RFIS-101离子源组装

带屏蔽的RFIS-100

带匹配网络的RFIS-100

组成

1. RFIS-101离子源组件(请参见上图)。为了最大程度地减少停机时间,可以使用可能需要清洁和/或维修的二手设备快速更换新的RFIS-101组件。
2. RFIS-007离子源法兰。源法兰具有两个用于RF天线的VCR水馈通连接,以及用于可选溅射目标连接的50 ohm BNC连接,以及用于电启动电路的12kV高压馈通。
3. RFIS-010气体隔离器。为防止等离子体短路到离子源法兰,已采用了特殊设计的高压气体断路器,可实现高达10kV的隔离。气体隔离器通过1/8“ swagelok接头连接到RFIS-007离子源法兰。
3. RFMB-100 MRF火柴盒。RF Match盒中装有适当调谐RF天线所需的高电流和高压真空可变电容器,以及源操作所需的气体,水和电气连接。火柴盒还装有新的高压电弧电源,可通过简单的电按钮启动离子源等离子体。
4. RFMB-200高压安全外壳。RFIS-100封装还包括一个有机玻璃外壳,以确保在离子源高压操作期间的操作员安全。机箱中装有风扇,以提供离子源的额外冷却。

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