离子枪系统 G-1和G-1-D型离子枪 G-2和G-2-D型离子枪


带液体冷却电磁体的G-2型可烘烤离子枪

G-1型不可烘烤离子枪。

Beam Imaging Solutions(BIS)提供两种离子枪系统。每个喷枪均包括离子源组件,散热器,加速和聚焦系统,垂直偏转板,6英寸长速度过滤器和速度过滤器保护环控制单元。组件组装在配有法兰的真空外壳中,以便安装到客户的设备上。防护环控制单元可以安装在标准的19英寸机架面板中。如果需要,可以订购定制法兰和其他端口。当喷枪需要使用光束减速器时,随附一个转接法兰(G-1-DG-2-D型离子枪)。Beam Imaging还提供控制单元(E系列)适用于上述离子枪系统。控制单元包括操作离子枪所需的所有电源,以及用于离子源和真空计控制的冷却单元。所有离子束组件也可单独购买或成套购买(离子源,散热器,速度滤镜,提取和聚焦透镜系统)。这些完整的套件称为离子束套件。

G-1和G-1-D型离子枪(不可烘烤)

G-1型可以在500 eV至10 keV的能量范围内运行(可选20keV)。如果需要的离子束能量小于500 eV,我们建议使用G-1-D型,其中包括400型减速器,并可以产生质量选定的能量低至1 eV的离子束。G-1系列的真空外壳由抛光的不锈钢管制成,直径为6英寸,长约19英寸。该长度包括500型绝缘子安装法兰。与400型减速器一起使用时,G-1-D的总长度为23 1/8“。两个离子枪外壳均配有6英寸ID的粗加工端口。G-1和G-1-D型号的标准出口法兰是8“ OD和6” ID内径平法兰。但是,与减速器一起使用时,G-1-D型具有2 3/4“出口法兰。-7托,不适用于烘烤。

G-2G-2-D型离子枪(可烘烤)

G-2和G-2-D离子枪均设计为在500 eV至10 keV(可选20keV)的能量范围内运行。但是,带有可选400型减速器的G-2-D离子枪可以在1 eV的电压下使用。G-1和G-2系列离子枪之间有两个区别。G-2离子枪设计为可烘烤至200 o C,可与超高真空(UHV)系统一起使用。速度滤波器上的电磁线圈被封装在不锈钢外套中,并被液体冷却,从而允许更高的电流和磁场强度。BIS建议使用CU-1冷却装置进行磁体和离子源冷却。G-2和G-2-D的尺寸分别与G-1和G-1-D相同。G-2和G-2-D的设计都非常适合在10 -9托的真空条件下使用。

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