Beam Imaging Solutions（BIS）展示了新的DCIS-100离子源组件。该离子源为Colutron热阴极放电型，与G-1型和G-2型离子枪系统一起使用。此源与Colutron氮化硼离子源（100型）设计相似，但由高度耐用的氧化铝陶瓷（Al 2 O 3）。与氮化硼源不同，由于氮化硼的吸湿性，DCIS-100的初始脱气时间以分钟为单位，而不是以小时为单位。氧化铝也比氮化硼具有更高的机械耐久性。DCIS-100还比Colutron的100-Q型石英离子源更耐用，并且能够为更高电流的离子束提供更高的温度和阳极放电电流。现在可以使用可以在放电室中产生轴向磁场的新型Colutron散热器。
 型号DCIS-100 |
 型号DCIS-101 |
离子源可作为一个完整的组件（-100型）与离子源（DCIS-101型），接收法兰（DCIS-102），气体三通和固体电荷保持器一起使用。DCIS-101离子源也可单独购买，并将插入标准的Colutron插座法兰中。带烤箱的离子源也可提供。该烘箱用于蒸发高达2000C的固体物料。
现在，Beam Imaging Solutions还可提供传统的Colutron 100-Q型离子源和备件。细丝，阳极，接触线和电源插座法兰等许多零件在传统的石英和陶瓷版本之间可以互换。也提供氮化硼版本的零件。